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SU1300本产品为结合硬质与软质研磨垫之优点,能兼顾平坦度与均匀度。 |
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SD1750A多孔隙开放架构,提供抛光液绝佳之流动性,特别适合铝合金及各类金属抛光。 |
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SF400其硬度及物性适用于一般研磨抛光应用时之缓冲垫 |
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SH1380A本产品之特殊结构设计,能在研磨期间达到高质量之平坦化结果 |
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SF800其厚度及物性适用于较严苛研磨抛光环境下之缓冲垫。 |
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SP1845A-EP本产品特殊之表面压纹设计,能有效均匀的输送抛光液至抛光垫的不同区碱,适用于最终镜面抛光制程。 |
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GFM适用于中压研磨制程,基层结构提供高压缩性具有高的缓冲性提升研磨精密度平坦度。 |
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GP1500具有的高抗剪力结构,提供耐磨耗性适合使用于玻璃/光阻层等细磨制程。 |
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GP1800其开孔细微的表层及高压缩率特性,其涵养的抛光液让机械与化学反应充份作用。 |
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SF400 其硬度及物性适用于一般研磨抛光应用时之缓冲垫。 |
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SF800 其厚度及物性适用于较严苛研磨抛光环境下之缓冲垫。 |
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