SU1300本产品为结合硬质与软质研磨垫之优点，能兼顾平坦度与均匀度。

 

SD1750A多孔隙开放架构，提供抛光液绝佳之流动性，特别适合铝合金及各类金属抛光。

 

SF400其硬度及物性适用于一般研磨抛光应用时之缓冲垫

 

SH1380A本产品之特殊结构设计，能在研磨期间达到高质量之平坦化结果

 

SC1535D具有高移除率、高平坦性、低缺陷性与高性价比等优势。

 

SF800其厚度及物性适用于较严苛研磨抛光环境下之缓冲垫。

 

SP1845A-EP本产品特殊之表面压纹设计，能有效均匀的输送抛光液至抛光垫的不同区碱，适用于最终镜面抛光制程。

 

GFM适用于中压研磨制程，基层结构提供高压缩性具有高的缓冲性提升研磨精密度平坦度。

 

GP1500具有的高抗剪力结构，提供耐磨耗性适合使用于玻璃/光阻层等细磨制程。

 

GP1800其开孔细微的表层及高压缩率特性，其涵养的抛光液让机械与化学反应充份作用。

 

IT1340D 本产品之特殊结构设计，在研磨期间能有良好切削率表现。

 

IT1580A 本产品特殊之研磨粒子，更有效达成制程上所需之移除率。

 

IT2080A 本产品不同之厚度设计，符合各种客户对于抛光垫需求。

 

SF400 其硬度及物性适用于一般研磨抛光应用时之缓冲垫。

 

SF800 其厚度及物性适用于较严苛研磨抛光环境下之缓冲垫。