产品介绍

适用于各种III-V化合物半导体材料、IC制造、石英、硬盘材料之粗、中抛光及适于CMP，硅片或各种光学、玻璃、金属、矿物或其它材料之快速抛光。
适于各种III-V化合物半导体材料、IC制造、石英、硬盘材料之最终镜面抛光。
可用于玻璃、光学、金属、陶瓷、石英、或其它材料之粗、中抛光。
可用各种玻璃、光学、金属、陶瓷、石英、或其它材料之最终镜面抛光。
本产品为吸附垫(或压力板垫)，主要为应用于面板及光学产业的抛光用途，如TFT/STN/光罩/光学玻璃等。
本产品为缓冲垫，提供CMP、硅片或其它各种晶圆抛光时最佳之缓冲与晶背保护效果。
本产品为缓冲垫，提供CMP、硅片或其它各种晶圆抛光时最佳之缓冲与晶背保护效果。